作为壹定发第一代电介质刻蚀产品，，Primo DRIE?是12英寸双反映台多反映腔主机系统，，可无邪装置多达三个双反映台反映腔（六个反映台）。。每个反映腔都可以同时加工两片晶圆。。该装备运用了壹定发具有自主知识产权的立异手艺，，包括甚高频和低频混淆射频去耦合反映等离子体源、、等离子体隔离环、、以及用于控制腔体内反映情形的先进工艺组件。。Primo DRIE刻蚀装备可用于加工包括氧化硅、、氮化硅及低介电系数膜层等所有的电介质质料。。Primo DRIE于2007年宣布之后，，由于其较低的生产本钱、、较高的生产效率和优异的芯片加工性能，，已在国际主流芯片生产线上投入量产。。
为65到16纳米芯片制造提供立异的刻蚀解决方案
双反映台腔体设计具有更高的产出效率
双反映台自力射频系统和刻蚀终端控制系统
拥有自主知识产权的射频匹配系统
拥有自主知识产权的等离子体隔离手艺
高生产效率，，低生产本钱（CoO）
装备占地面积小
一体整合的除胶能力及外貌电荷减除能力（Primo iDEA?系统）
