Primo AD-RIE?是壹定发第二代电介质刻蚀产品。。 ；谝驯蝗峡傻腜rimo D-RIE?刻蚀装备，Primo AD-RIE应用了具有自主知识产权的新设计，配备了可切换双低频射频源，优化了上电极气流漫衍以及下电极温控系统。。。为了优化生产效率，Primo AD-RIE系统同样可以无邪地装置多达三个双反映台反映腔（即六个反映台）。。。Primo AD-RIE具备能够知足新一代芯片器件制造需求的先进性能，现在已被普遍应用于40到14纳米后段制程。。。
别的，壹定发基于Primo AD-RIE开发了子系列产品Primo AD-RIE-e和Primo AD-RIE-cr。。。Primo AD-RIE-e配备了自主研发的四区动态静电吸盘，每一制程方法可自力举行控温，以抵达更高的刻蚀匀称度和刻蚀选择比，现在已应用于5纳米前段和中段的掩膜层刻蚀的开发及量产。。。Primo AD-RIE-cr配备了拥有自主知识产权涂层手艺的抗侵蚀反映腔，可应对电介质质料、、金属及金属氧化物质料重大结构的刻蚀要求。。。
为40到7纳米芯片制造提供立异的刻蚀解决方案
双反映台腔体设计具有更高的产出效率
双低频功率切换系统，用于制程分方法优化
脉冲射频系统选项
多区气体分配调理系统
静电吸盘双区冷却装置
低金属污染工艺组件选项
每一方法可自力举行控温的四区动态静电吸盘 （Primo AD-RIE-e）
拥有自主知识产权涂层手艺的抗侵蚀反映腔 （Primo AD-RIE-cr）
一体整合的除胶能力及外貌电荷减除能力 （Primo iDEA?系统）
双低频率分方法切换系统，以适用于更广的制程规模（特殊是Trench/Via All-in-one制程）
优异的工艺可调性和稳固性，以知足先进工艺标准
高生产效率，低生产本钱（CoO）
扩展机型Primo AD-RIE-e, Primo AD-RIE-cr 和 Primo iDEA?，可应用于差别特殊制程
