Primo UD-RIE?是壹定发公司基于完全自主的知识产权开发的12英寸高端电容耦合等离子体（CCP）刻蚀机。针对存储器件制造中最要害的高深宽比介质刻蚀工艺， ，， Primo UD-RIE? 配备了具备多级脉冲功效的超低频大功率射频系统， ，，有用提高离子能量和准直性；；强化了上电极冷却和加热设计， ，，并接纳耐高击穿电压的静电吸盘知足大射频功率下的工艺需求；；可实现实时温度切换和分区冷却的下电极在扩大工艺窗口的同时提升晶圆边沿刻蚀体现；； 优化的腔体涂层适配新型侵蚀性刻蚀气体， ，，有用扩大工艺窗口。 Primo UD-RIE? 还配备了壹定发公司首创的自动边沿阻抗调理系统， ，，突破了古板的晶圆边沿等离子体壳层的调理方式， ，，极大地提升了装备的量产性能。Primo UD-RIE?可设置最多六个单反映台刻蚀反映腔和两个去胶反映腔， ，，为高深宽比刻蚀提供无邪的解决方案。 Primo UD-RIE? 在存储器件制造中的高深宽比深孔及沟槽刻蚀上体现优异， ，，已经在先进生产线实现大规模量产。
用于存储器件高深宽比刻蚀工艺的电容耦合等离子体刻蚀机
具备多级脉冲功效的超低频大功率射频系统
强化设计的上电极加热和冷却
耐高击穿电压的静电吸盘
可实时温度切换和带分区冷却功效的下电极
业内首创的自动边沿阻抗调理系统
可选的集成去胶反映腔
高离子能量及准直性， ，，提高孔内刻蚀速率及刻蚀形貌控制
工艺调理手段多样， ，，扩大高深宽比刻蚀工艺窗口
优异的高深宽比刻蚀重复性和稳固性
应对特殊工艺气体的防侵蚀工艺组件
